Skoltech’teki araştırmacılar, Çin Bilimler Akademisi’nin Şanghay Optik ve İnce Mekanik Enstitüsü’nden bir meslektaşıyla birlikte SIOM-Skoltech ortak laboratuvarında çalışarak, içinden geçen bir darbenin attosaniye süresini ve yüksek yoğunluğunu koruyabilmesi için bir plazma hedefinin kalınlığının ve yoğunluğunun nasıl seçileceğini belirlediler. Sonuçlar, maddedeki ultra hızlı süreçleri incelemek için kullanılan plazma bazlı ultraviyole ve X-ışını radyasyonu kaynaklarının tasarımının geliştirilmesine yardımcı olacaktır.



